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| CVD法生长金刚石薄膜中基片表面形貌对成核密度的影响 | |
| 作者姓名： | 杨国伟 |
| 作者单位： | 合肥工业大学 合肥 |
| 摘 要： | 本文首次提出用分形理论研究CVD方法生长金刚石薄膜中基片表面形貌对成核密度的影响,发现:成核密度n与基片表面分形维数D之间存在一定关系;在D介于2～3时,n有峰值存存。 |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 CVD法 基片 成核密度 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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