类金刚石薄膜的结构和红外光学性能研究 |
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引用本文: | 毛友德,刘声雷,杨国伟.类金刚石薄膜的结构和红外光学性能研究[J].红外与激光工程,1992(6). |
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作者姓名: | 毛友德 刘声雷 杨国伟 |
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作者单位: | 合肥工业大学物理系,合肥工业大学物理系,航空航天部第104中心 |
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摘 要: | 本文用辉光放电等离子体化学气相沉积(PCVD)法在Si、Ge玻璃等基片上制备出品质较好的类金刚石薄膜。首先,用拉曼光谱和红外吸收谱研究了所制备薄膜的结构,并且研究了制备膜的光吸收和光学带隙,然后,研究了沉积有类金刚石膜Si,Ge等基片的红外透过率。
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关 键 词: | 红外光学 辉光放电等离子体 化学气相沉积 类金刚石碳膜 |
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