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| 咪唑对钌化学机械抛光的影响 | |
| 作者姓名： | 王婕 储向峰 董永平 孙文起 叶明富 白林山 |
| 作者单位： | 安徽工业大学化学与化工学院,安徽马鞍山,243002 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(50975002);安徽工业大学创新团队项目(TD201204); 教育部高校留学回国人员科研项目 |
| 摘 要： | 利用自制的抛光液,研究了在磷酸体系抛光液中咪唑(imidazole,C3H4N2)浓度和pH值对钌的抛光速率的影响。采用电化学分析方法和X射线光电子能谱仪(XPS)分析了缓蚀剂咪唑对腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜(AFM)观察钌片表面的微观形貌。试验结果表明:金属钌在未加入咪唑的磷酸体系抛光液中,抛光速率最高为6.2nm/min,平均粗糙度(Ra)为10.7nm;而在抛光液中加入咪唑后,钌的抛光速率为3.9nm/min,平均粗糙度(Ra)降至1.0nm。咪唑的加入,虽然降低了金属钌的抛光速率,但提高了金属钌的表面质量。同时也促进了金属钌表面钝化膜的生成,降低了金属钌的腐蚀电流值,抑制了阴极反应。 |
| 关 键 词： | 钌 咪唑 化学机械抛光 电化学检测 |
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