| 磁控溅射Fe-N薄膜及Fe-N/TiN多层膜的结构和磁性 |
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| 引用本文： | 李华飚,乔祎,周剑平.磁控溅射Fe-N薄膜及Fe-N/TiN多层膜的结构和磁性[J].真空科学与技术学报,2000,20(5):311-314. |
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| 作者姓名： | 李华飚 乔祎 周剑平 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料物理系!北京100083(李华飚，赵春生，常香荣)，北京科技大学新金属材料重点实验室北京100083(乔祎，张永平)，北京科技大学新金属材料重点实验室(周剑平)，北京科技大学新金属材料重点实验室北(田中卓) |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重大项目资助!批准号 :19890 310 |
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| 摘 要： | 用磁控溅射法制备了Fe N薄膜和Fe N/TiN多层膜。结果表明 ,在常温下 ,使用较小的氮、氩比溅射 ,生成的Fe N薄膜主要是含氮α Fe固溶体 ,并且N原子进入α Fe晶格是饱和磁化强度提高的一个原因。Fe N/TiN多层膜的层间耦合作用以及减小每一Fe N层厚度而引起的晶粒尺寸的减小可以有效地降低薄膜的矫顽力 ,从而获得更好的软磁性能
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| 关 键 词： | 结构 磁性 溅射沉积 Fe-N薄膜 Fe-N/TiN多层膜 |
| 修稿时间： | 1999-10-21 |
Structure and Soft Magnetic Properties of Fe-N Films and Fe-N/TiN Multilayers Prepared by DC Magnetron Sputtering |
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| Li Huabiao,Qiao Yi ,Zhou Jianping,Zhao Chunsheng,Zhang Yongping,Chang Xiangrong,Tian Zhongzhuo Material Physics.Structure and Soft Magnetic Properties of Fe-N Films and Fe-N/TiN Multilayers Prepared by DC Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2000,20(5):311-314. |
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| Authors: | Li Huabiao Qiao Yi Zhou Jianping Zhao Chunsheng Zhang Yongping Chang Xiangrong Tian Zhongzhuo Material Physics |
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| Affiliation: | Li Huabiao,Qiao Yi 1),Zhou Jianping,Zhao Chunsheng,Zhang Yongping,Chang Xiangrong,Tian Zhongzhuo Material Physics Department,Beijing University of Science and Technology,Beijing,100083, 1) State Key Laboratory for Advanced Metal and Materi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Structure Magnetic properties Sputtering-deposition Fe-N films Fe-N/TiN multilayer |
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