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用于纳电子器件的超薄氮氧硅薄膜的软失效电导
引用本文:许铭真,谭长华,何燕冬,段小蓉.用于纳电子器件的超薄氮氧硅薄膜的软失效电导[J].半导体学报,2005,26(z1):126-128.
作者姓名:许铭真  谭长华  何燕冬  段小蓉
作者单位:北京大学微电子研究院,北京,100871;北京大学微电子研究院,北京,100871;北京大学微电子研究院,北京,100871;北京大学微电子研究院,北京,100871
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:研究了2.5nm超薄氮氧硅薄膜的软击穿电导特性.统计实验结果表明,软失效电导和软失效时间与环境温度之间均遵从AHhenius规则,而且软失效电导和软失效时间遵从一个反对称的规律.它们源于同一个应力诱生缺陷导电机制.

关 键 词:氮氧硅薄膜  软失效电导  软失效时间  缺陷导电
文章编号:0253-4177(2005)S0-0126-03
修稿时间:2004年9月8日

Conductivity to Soft Failure of N-O-Si Thin Film Used in Nanometer Device
Xu Mingzhen,Tan Changhua,He Yandong,Duan Xiaorong.Conductivity to Soft Failure of N-O-Si Thin Film Used in Nanometer Device[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(z1):126-128.
Authors:Xu Mingzhen  Tan Changhua  He Yandong  Duan Xiaorong
Abstract:
Keywords:
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