| Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能 |
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| 引用本文： | 王钰萍,叶春丽,吕建国,丛宏林,江忠永,叶志镇. Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能[J]. 材料科学与工程学报, 2012, 30(5) |
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| 作者姓名： | 王钰萍 叶春丽 吕建国 丛宏林 江忠永 叶志镇 |
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| 作者单位： | 1.浙江大学硅材料国家重点实验室,材料科学与工程学系,浙江杭州310027;2.杭州士兰明芯科技有限公司。浙江杭州310018 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目,浙江省LED照明新技术创新团队,中央高校基本科研业务费科研发展专项资助项目 |
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| 摘 要： | 本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO／Cu、Cu／AZO和AZO／Cu／AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO／Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100～150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO／Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明：合适的生长温度有利于改善AZO／Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1．11×10^-2Ω^-1,此时方块电阻为8．99Ω／sq,可见光透过率为80％,近红外反射率约70％。本文在较低温度下制备的AZO／Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射
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| 关 键 词： | AZO 多层结构薄膜 光电性能 生长温度 |
Growth and Properties of Cu-based Al-doped ZnO Multilayer Films |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | AZO multiplayer films photoelectric properties growth temperature |
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