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硅片粘合杂质双扩散制造晶闸管
作者姓名:陈福元
作者单位:浙江大学功率器件研究所
摘    要:本文介绍硅片粘合杂质双扩散制造晶闸管工艺,结合光刻门极化学挖槽技术,简化制管工序,改善了器件的电性能指标。

关 键 词:硅片粘合 杂质扩散 晶闸管
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