| 氧分压对TiO2膜结构与光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 朱凤,赵坤,赵夔,王莉芳,全胜文. 氧分压对TiO2膜结构与光学性质的影响[J]. 膜科学与技术, 2002, 22(3): 29-34 |
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| 作者姓名： | 朱凤 赵坤 赵夔 王莉芳 全胜文 |
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| 作者单位： | 北京大学重离子物理研究所超导腔组,北京,100871 |
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| 基金项目： | 中国节能投资公司资助 (2 0 0 0 0 412 ) |
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| 摘 要： | 报道了用反应溅射法制备TiO2 膜的实验研究 .详细研究了膜的沉积、膜结构及其光学性质 ,随溅射氧分压的变化 .随氧分压由 6× 10 - 2 Pa增加到 9× 10 - 2 Pa时 ,晶体结构由金红石变到锐钛矿 ,氧分压超过 9× 10 - 2 Pa时趋向于无定形结构 .与膜结构密切相关的折射率n随氧分压的增大由 2 .4 4变到 1.96 ,禁带宽度Eg 则由大变小 ,然后再增大的变化 (3.4 1→ 3.2 6→3.4 2 ) .
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| 关 键 词： | 反应溅射 TiO2薄膜 氧分压 折射率 禁带宽度 |
| 文章编号： | 1007-8924(2002)03-0029-06 |
| 修稿时间： | 2001-04-24 |
Structural and optical characterization of TiO2 films deposited by reactive magnetron sputtering at different oxygen pressures |
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| ZHU Feng,ZHAO Kun,ZHAO Kui,WANG Lifang,QUAN Shengwen. Structural and optical characterization of TiO2 films deposited by reactive magnetron sputtering at different oxygen pressures[J]. Membrane Science and Technology, 2002, 22(3): 29-34 |
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| Authors: | ZHU Feng ZHAO Kun ZHAO Kui WANG Lifang QUAN Shengwen |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | reactive sputtering TiO_2 thin film oxygen partial pressure refractive index band gap energy |
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