| 辅助离子束对中频孪生磁控反应溅射制备氧化钛光学薄膜的影响 |
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| 引用本文： | 望咏林,颜悦,伍建华,温培刚,张晓锋. 辅助离子束对中频孪生磁控反应溅射制备氧化钛光学薄膜的影响[J]. 真空科学与技术学报, 2010, 30(5). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.05.13 |
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| 作者姓名： | 望咏林 颜悦 伍建华 温培刚 张晓锋 |
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| 作者单位： | 北京航空材料研究院,北京,100095 |
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| 摘 要： | 本文利用孪生靶50 kHz中频磁控反应溅射的方法,在多孔阳极层离子束源产生的低温离子束辅助条件下制备了光学性能良好的氧化钛薄膜。利用原子力显微镜、分光光度计、椭圆偏振光谱仪研究了离子束功率以及退火温度对氧化钛薄膜形貌、光学折射率和消光系数、孔隙率等的影响。结果表明:利用中频孪生磁控溅射的方法将沉积工艺控制在反应过渡区,可以有效的抑制钛靶中毒和阳极消失,反应溅射过程稳定;辅助离子束提高了等离子体的电荷密度;氧化钛薄膜堆积密度和光学折射率也有所提高,薄膜表面趋于平坦,孔隙率降低。氧化钛薄膜在高温退火处理时由于出现从非晶到多晶转变以及晶体长大与转变,结构逐渐趋于完整,表面粗糙度不断增加;800℃时完全转化为金红石相,晶粒直径约70 nm。
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| 关 键 词： | 氧化钛薄膜 磁控反应溅射 中频孪生 离子束辅助沉积 |
Influence of Ion-Beam Assistance on Properties of TiO2 Films Deposited by MF Twin Magnetron Reactive Sputtering |
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| Wang Yonglin,Yan Yue,Wu Jianhua,Wen Peigang,Zhang Xiaofeng. Influence of Ion-Beam Assistance on Properties of TiO2 Films Deposited by MF Twin Magnetron Reactive Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2010, 30(5). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.05.13 |
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| Authors: | Wang Yonglin Yan Yue Wu Jianhua Wen Peigang Zhang Xiaofeng |
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