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利用掩膜制作光纤光册的分析
引用本文:刘永红 刘水华. 利用掩膜制作光纤光册的分析[J]. 量子电子学报, 1997, 14(5): 458-463
作者姓名:刘永红 刘水华
作者单位:武汉华中理工大学光电子工程系!武汉,430074,邮电部武汉邮电科学院固体嚣件所!武汉,430074,邮电部武汉邮电科学院固体嚣件所!武汉,430074,邮电部武汉邮电科学院固体嚣件所!武汉,430074,邮电部武汉邮电科学院固体嚣件所!武汉,430074,邮电部武汉邮电科学院固体嚣件所!武汉,430074
摘    要:利用相位掩膜和准分子激光,可以方便有效地制作光纤光栅。本文从衍射和干涉理论出发,讨论了具有一定空间和相间相干性的准分子激光照射具有不同衍射级次的掩膜时产生的近场光场分布。分析了其对光纤光栅制作的影响,并把分析结果与实验现象进行了比较。

关 键 词:相位掩膜 光纤光栅 近场光强分布

Analysis of Grating Production with Phase Masks
Liu Yonghong, Liu Shuibua, Ruan yinglanJiang Shan, Fang Luozhen, Huang DeXiu. Analysis of Grating Production with Phase Masks[J]. Chinese Journal of Quantum Electronics, 1997, 14(5): 458-463
Authors:Liu Yonghong   Liu Shuibua   Ruan yinglanJiang Shan   Fang Luozhen   Huang DeXiu
Affiliation:Liu Yonghong1, Liu Shuibua, Ruan yinglanJiang Shan, Fang Luozhen, Huang DeXiu1
Abstract:With phase masks and excimer laser, the fiber grating can be produced con-veniently and effectively. Based on diffraction and interference theories, we access thenearfield optical intensity distributions produced by a periodic mask which contains different diffracted orders when exposed using an excimer laser with certain space and timecoherence, Its influence on the production of fiber grating is analysized, and the resultscompared with those of the experiment.
Keywords:fiber grating   phase mask  near-field intensity distribution  
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