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京大等三家开发成功SiC外延膜量产技术
摘 要:
京都大学、东京电子、罗姆等宣布,使用“量产型SiC(碳化硅)外延膜生长试制装置”,确立对SiC晶圆进行大批量统一处理的技术已经有了眉目。由此具备耐高温、耐高压、低损耗、大电流及高导热系数等特征的功率半导体朝着实用化迈出了一大步。目前,三家已经开始使用该装置进行功率半导体的试制,第一段]
关 键 词:
量产技术
SiC
外延膜
功率半导体
开发
京都大学
统一处理
导热系数
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