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MTM反熔丝单元编程特性研究
引用本文:王印权,刘国柱,徐海铭,郑若成,洪根深.MTM反熔丝单元编程特性研究[J].电子与封装,2015(3).
作者姓名:王印权  刘国柱  徐海铭  郑若成  洪根深
作者单位:中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡,214035
摘    要:主要研究了编程参数对MTM反熔丝单元编程特性的影响,包括编程电压、编程电流、编程次数等。结果表明在满足最低编程电压条件下,编程电压的增大对反熔丝编程电阻无显著影响。编程电流对编程电阻的影响较大,编程电流越大,反熔丝编程电阻越小。编程次数的增多可减小编程电阻,但离散性增大。

关 键 词:MTM反熔丝单元  编程电阻  编程电压  编程次数

Study of Metal to Metal Antifuse Cell Programming Characteristics
WANG Yinquan,LIU Guozhu,XU Haiming,ZHENG Ruocheng,HONG Genshen.Study of Metal to Metal Antifuse Cell Programming Characteristics[J].Electronics & Packaging,2015(3).
Authors:WANG Yinquan  LIU Guozhu  XU Haiming  ZHENG Ruocheng  HONG Genshen
Abstract:
Keywords:MTM antifuse cell  on-state resistance  programming voltage  programming times
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