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含氮直拉硅中复合浅施主的光热电离光谱研究
引用本文:胡灿明,祁明维.含氮直拉硅中复合浅施主的光热电离光谱研究[J].红外与毫米波学报,1991,10(5):327-331.
作者姓名:胡灿明  祁明维
作者单位:中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家实验室,中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家实验室,中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家实验室,中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家实验室,中国科学院上海冶金研究所,复旦大学物理系,复旦大学物理系 上海 200083,上海 200083,上海 200083,上海 200083,上海 200050,上海 200433,上海 200433
摘    要:报道N型含氮直拉硅单晶的光热电离光谱(PTIS)除观察到P的谱线系列外,还观察到三个与氮、氧有关的复合型浅施主中心D(N-O)的谱线系,首次报道了它们3p_±以上的谱线位置,并精确测定了其电离能为36.16meV、36.41meV和37.37meV。变温分析表明,它们不是源于同一化学中心的基态分裂,而是独立的复合施主中心。

关 键 词:直拉硅  复合浅施主  光热电离谱  

PHOTOTHERMAL IONIZATION SPECTRA OF SHALLOW COMPLEX DONORS IN Cz-Si DOPED WITH NITROGEN
HU CANMIN,HUANG YEXIAO,YE HONGJUAN,SHEN XUECHU.PHOTOTHERMAL IONIZATION SPECTRA OF SHALLOW COMPLEX DONORS IN Cz-Si DOPED WITH NITROGEN[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,1991,10(5):327-331.
Authors:HU CANMIN  HUANG YEXIAO  YE HONGJUAN  SHEN XUECHU
Abstract:
Keywords:Cz-Si  nitrogen-oxygen complex shallow donors  photothermal ionization spectroscopy  
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