| 基片及基片温度对Fe4N薄膜的形成及其特性的影响 |
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| 引用本文： | 诸葛兰剑,姚伟国,吴雪梅,王文宝.基片及基片温度对Fe4N薄膜的形成及其特性的影响[J].功能材料,2002,33(5):477-478,481. |
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| 作者姓名： | 诸葛兰剑 姚伟国 吴雪梅 王文宝 |
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| 作者单位： | 1. 苏州大学,分析测试中心,江苏,苏州,215006
2. 苏州大学,物理系,江苏,苏州,215006 |
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| 基金项目： | 苏州大学薄膜材料江苏省重点实验室资助项目(T2108104) |
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| 摘 要： | 以双离子束溅射法在（111）硅片和玻璃上分别制得了单－γ′－Fe4N薄膜，研究了基片及基片温度对薄膜的结构和磁性能的影响，结果表明，（111）硅片为基片，可制得无晶粒择优取向的单一γ′－Fe4N相；而以玻璃为基片，在基片温度为160℃时，则可制得具有（100）面晶粒取向的单一γ′－Fe4N相薄膜，与无晶粒择优取向的γ′－Fe4N相比较，具有（100）面晶粒取向的γ′－Fe4N相的矫顽力较低，易达到磁饱和，但二者的饱和磁化强度基本一致。
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| 关 键 词： | 基片温度 双离子束溅射 基片 γ－Fe4N薄膜 晶粒取向 |
| 文章编号： | 1001-9731(2002)05-0477-02 |
The effects of substrate and substrate temperature on the synthesis and characterization of Fe4N thin films |
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| ZHUGE Lan jian ,YAO Wei guo ,WU Xue mei WANG Wen bao.The effects of substrate and substrate temperature on the synthesis and characterization of Fe4N thin films[J].Journal of Functional Materials,2002,33(5):477-478,481. |
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| Authors: | ZHUGE Lan jian YAO Wei guo WU Xue mei WANG Wen bao |
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| Affiliation: | ZHUGE Lan jian 1,YAO Wei guo 2,WU Xue mei 2 WANG Wen bao 1 |
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| Abstract: | |
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