| 玻璃微流控芯片的低成本制作技术 |
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| 引用本文： | 李东玲,温志渝,尚正国,王胜强.玻璃微流控芯片的低成本制作技术[J].半导体光电,2011,32(6):820-824. |
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| 作者姓名： | 李东玲 温志渝 尚正国 王胜强 |
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| 作者单位： | 新型微纳器件与系统国家重点实验室,重庆400044／重庆大学微系统研究中心,重庆400044;新型微纳器件与系统国家重点实验室,重庆400044／重庆大学微系统研究中心,重庆400044;新型微纳器件与系统国家重点实验室,重庆400044／重庆大学微系统研究中心,重庆400044;新型微纳器件与系统国家重点实验室,重庆400044／重庆大学微系统研究中心,重庆400044 |
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| 基金项目： | 国家“863”计划项目(2009AA04Z327) |
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| 摘 要： | 针对玻璃微流控芯片制作中普遍存在的成本高、加工周期长等问题，提出了一种基于湿法腐蚀技术的低成本、实用化制作方法。该方法以商用显微载玻片作为基底材料，采用普通负性光刻胶RFJ-220为腐蚀掩模，通过优化光刻及湿法腐蚀工艺，可得到深度大于40μm（最深可达110μm），侧向钻蚀比为1．25：1，表面粗糙度小于5．2nm的微沟道。重点解决了光刻胶与基底之间的粘附性问题，并分析了腐蚀液的配比及腐蚀方式等对沟道形貌的影响。整个制作工艺过程简单，成本低，稳定性好，可广泛应用于玻璃微流控芯片的制作中。
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| 关 键 词： | 微流控芯片 湿法腐蚀 光刻胶掩膜 侧向钻蚀比 |
Low-cost Fabrication Technology of Glass-based Microfluidic Chip |
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| LI Dongling,WEN Zhiyu,SHANG Zhengguo,WANG Shengqiang.Low-cost Fabrication Technology of Glass-based Microfluidic Chip[J].Semiconductor Optoelectronics,2011,32(6):820-824. |
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| Authors: | LI Dongling WEN Zhiyu SHANG Zhengguo WANG Shengqiang |
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| Affiliation: | 1,2(1.National Key Laboratory of Novel Micro/Nano Device and System,Chongqing 400044,CHN; 2.Microsystem Research Center,Chongqing University,Chongqing 400044,CHN) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | mierofluidie chip wet etching photoresist mask undercut ratio |
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