首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

刻槽剥离砷化镓肖特基势垒栅场效应晶体管
引用本文:中谷正昭,隈部久雄,黄礼蓥.刻槽剥离砷化镓肖特基势垒栅场效应晶体管[J].微纳电子技术,1976(Z1).
作者姓名:中谷正昭  隈部久雄  黄礼蓥
摘    要:砷化镓肖特基势垒栅场效应晶体管(以下缩写成 GaAs SB FET)在微波领域中与硅双极晶体管相比显示出更多的优良特性,在微波通信设备的微波放大器和振荡器中,从小信号低噪声和大功率放大二个方面进行着研究,现在已接近实用阶段。要想提高 SBFET 的性能,有必要把器件结构的最佳设计技术、含有缓冲层的亚微米外延生长技术、源和漏的欧姆电极形成技术,与缩短栅长相关的微细图形制造技术等许多技术加以有机结合起来。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号