电解抛光

手工研磨电蚀表面是一种十分费时的操作,为此,人们进行了不少机械抛光的研究。但是过去的研究成果一般只能适用于二维轮廓的抛光,因为复杂的三维轮廓会给机械抛光造成几乎是无法克服的困难。最近,一种新工艺——电解抛光——引起人们的注意。用这种新工艺抛光三维模具,效果很好。电解加工并不是独树一帜的新工艺,它只不过是超过通常作为精整加工的电蚀加工工艺,而达到了极精细的程度,从而生产出尽可能平滑而光亮的二维或三维的模具表面。过去,电蚀后只有通过手工抛光才能获得这样的表面。经过电解抛光的模具,其表面粗糙度可达到R_a=0.1～0.3μm,即R_t=1.0～2.0μm。这对于大多数模具来说,是能满足要求的。在显微镜下看,即使经过电解抛光的表面仍然残留着电蚀表面通常存在的成串排列和重叠的放电凹