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柔性聚酰亚胺(PI)衬底上ITO薄膜的生长及其透明导电性能影响机制研究
引用本文:赵佳明,边继明,孙景昌,张东,梁红伟,骆英民.柔性聚酰亚胺(PI)衬底上ITO薄膜的生长及其透明导电性能影响机制研究[J].功能材料,2011,42(Z4):644-647.
作者姓名:赵佳明  边继明  孙景昌  张东  梁红伟  骆英民
作者单位:1. 大连理工大学物理与光电工程学院,辽宁大连,116024
2. 辽宁师范大学物理与电子技术学院,辽宁大连,116029
基金项目:国家自然科学基金重点资助项目,中央高校基本科研业务费专项资金资助项目
摘    要:采用直流磁控溅射法在聚酰亚胺(PI)柔性衬底上生长氧化铟锡(ITO)薄膜,采用XP-2探针台阶仪、X射线衍射(XRD)、霍尔测试仪、紫外-可见分光光度计等对ITO薄膜进行结构和光电性能表征.结果表明溅射功率和沉积气压是影响磁控溅射法生长ITO薄膜透明导电性能的主要因素,实验系统研究了溅射功率和沉积气压对ITO薄膜透明导...

关 键 词:磁控溅射  聚酰亚胺(PI)  柔性衬底  ITO透明导电膜

Growth and transparent conductive properties of ITO films on flexible polyimide (PI) substrates
ZHAO Jia-ming , BIAN Ji-ming , SUN Jing-chang , ZHANG Dong , LIANG Hong-wei , LUO Ying-min.Growth and transparent conductive properties of ITO films on flexible polyimide (PI) substrates[J].Journal of Functional Materials,2011,42(Z4):644-647.
Authors:ZHAO Jia-ming  BIAN Ji-ming  SUN Jing-chang  ZHANG Dong  LIANG Hong-wei  LUO Ying-min
Abstract:
Keywords:
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