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SU-8胶制备三维微电极结构研究
引用本文:文春明,尤政,温志渝,王晓峰,陈李.SU-8胶制备三维微电极结构研究[J].功能材料,2011,42(Z4):681-684.
作者姓名:文春明  尤政  温志渝  王晓峰  陈李
作者单位:1. 新型微纳器件与系统技术国家重点学科实验室,重庆400030;重庆大学微系统中心,重庆400030
2. 清华大学精密仪器与机械学系,北京,100084
基金项目:高等学校科技创新工程重大项目培育资金资助项目
摘    要:为了增大MEMS超级电容器电极结构的表面积,提高MEMS超级电容器的电荷存储能力,研究了利用SU-8胶制备高深宽比三维电极微结构.经过基片清洗、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、坚膜等过程,制备了深宽比为6的微结构.分析讨论了微结构制备过程中基底洁净度和升降温速度及曝光、显影时间等因素对结构制备的影响.实验结果表明,用SU...

关 键 词:三维微结构  SU-8光刻胶  高深宽比  超级电容器  MEMS

The study of fabrication of three-dimensional micro-electrode structure for MEMS supercapacitor by SU-8 photoresist
WEN Chun-ming , YOU Zheng , WEN Zhi-yu , WANG Xiao-feng , CHEN Li.The study of fabrication of three-dimensional micro-electrode structure for MEMS supercapacitor by SU-8 photoresist[J].Journal of Functional Materials,2011,42(Z4):681-684.
Authors:WEN Chun-ming  YOU Zheng  WEN Zhi-yu  WANG Xiao-feng  CHEN Li
Abstract:
Keywords:
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