| 离子束溅射La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜的XRD和XPS研究 |
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| 引用本文： | 朱志强,丁铁柱,张利文,王强,赵倩.离子束溅射La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜的XRD和XPS研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(6):494-499. |
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| 作者姓名： | 朱志强 丁铁柱 张利文 王强 赵倩 |
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| 作者单位： | 内蒙古大学理工学院物理系,呼和浩特,010021 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;内蒙古大学校科研和校改项目 |
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| 摘 要： | 采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆（YSZ）和铝酸镧（LaAlO3）上溅射RE0.5Sr0．5CoO3-δ薄膜，测试了薄膜的XRD、XPS谱、分析了表面微结构及化学状态。实验表明。随着热处理温度的升高。La0．5Sr0．5CoO3-δ薄膜在YSZ和LaAlO3上生长时有取向增强的趋势，并且晶粒度增大，晶格氧减少。氧空位增加。氧输运性能提高。当热处理温度为750℃时薄膜结晶度最好，晶粒度最大，氧输运性能最好。
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| 关 键 词： | 离子束溅射 La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜 XRD谱 XPS谱 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）06-0494-06 |
| 收稿时间： | 2006-02-10 |
| 修稿时间： | 2006年2月10日 |
XRD and XPS Study of La0.5Sr0.5CoO3-δ Film Grown by Ion-Beam Sputtering |
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| Zhu Zhiqiang,Ding Tiezhu,Zhang Liwen,Wang Qiang,Zhao Qian.XRD and XPS Study of La0.5Sr0.5CoO3-δ Film Grown by Ion-Beam Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(6):494-499. |
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| Authors: | Zhu Zhiqiang Ding Tiezhu Zhang Liwen Wang Qiang Zhao Qian |
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| Affiliation: | Department of Physics, College of Sciences and Technology, Inner Mongolia University, Hohhot 010021, China |
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