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高技术工艺和设备——发展与展望
摘    要:回顾了以真空、激光、电子束和等离子体为基础的工艺,并对真空热处理和商业使用设备做一比较,通过钎焊和热处理实例描述了真空热处理的基本原理,类似的处理还有电子束处理、激光束处理和等离子化学热处理,并对CVD、PVD和离子注入等的进展做了

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