PCVD方法沉积TiN的放电光谱研究 |
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引用本文: | 何翔,孙奉娄.PCVD方法沉积TiN的放电光谱研究[J].国外金属热处理,1995,16(1):36-39. |
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作者姓名: | 何翔 孙奉娄 |
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摘 要: | 运用发射光谱对等离子体化学气相沉积(PCVD)在钢基片上沉积TiN的研究表明:放电气氛中存在多种类型的粒子,涂层的生长直接依赖于Ti^+的浓度;而气相TiN的出现将导致产生鳞片状,疏松的涂层,降低TiN涂层的硬度。
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关 键 词: | PCVD 发射光谱 钢基片 覆层 氮化钛 |
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