|
|||||
|
|
| NiFe／Cu多层膜的热处理研究 | |
| 作者姓名： | 周安 王海 |
| 作者单位： | 首都师范大学物理系，首都师范大学物理系，首都师范大学物理系，首都师范大学物理系，首都师范大学物理系 北京 100037，北京 100037，北京 100037，北京 100037，北京 100037 |
| 摘 要： | 针对用磁控溅射方法制备的ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜进行了热处理研究，经退火后，ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜的磁电阻有了显著的变化，在２５０℃的最佳退火下，最大磁电阻变化率为５．２％。 |
| 关 键 词： | 多层膜 巨磁电阻 热处理 镍铁／铜 软磁合金 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |