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短沟道SiC MESFET亚阈值特性
引用本文:韩茹,杨银堂,贾护军. 短沟道SiC MESFET亚阈值特性[J]. 功能材料与器件学报, 2008, 14(4)
作者姓名:韩茹  杨银堂  贾护军
作者单位:西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071
基金项目:国防科技预研项目,国防科技预研项目
摘    要:基于器件物理分析的方法,结合沟道电势二维解析模型,分析比较了漏极引致势垒降低效应(DIBL effect)对6H-及4H-SiC MESFET沟道势垒,阈值电压,以及亚阈值电流的影响,并研究了其温度特性.研究表明DIBL效应的存在使SiC MESFET的沟道势垒最小值随栅长及温度发生变化,并带来阈值电压及亚阈值电流的变化.栅长越大,温度越高,亚阚值倾斜因子Ns越小,栅压对沟道电流的控制能力增强,最终造成亚阈值电流随栅压的变化越快.

关 键 词:碳化硅MESFET  沟道电势  漏极引致势垒降低效应  阈值电压

Subthreshold characteristics of short- channel SiC MESFETs
HAN Ru,YANG Yin-tang,JIA Hu-jun. Subthreshold characteristics of short- channel SiC MESFETs[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2008, 14(4)
Authors:HAN Ru  YANG Yin-tang  JIA Hu-jun
Abstract:
Keywords:
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