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杂志ISSN号
磁控反应溅射制备氧化锡膜的工艺研究
作者姓名:
张随新
陈国平
作者单位:
东南大学薄膜研究所!南京210096
摘 要:
介绍了磁控反应溅射制备氧化锡薄膜时,反应气体氧流量对放电参数、薄膜沉积速率及沉积膜性能的影响。指出随氧流量的不同,放电分别处于金属溅射、过渡溅射和氧化物溅射三种不同的模式。三种模式下的放电电压及沉积速率均有较大差别,相应的沉积膜依次具有金属相、金属及氧化物混合相和氧化物相三种不同属性。
关 键 词:
反应溅射
氧化锡膜
氧流量
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