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| 半导体器件生产中的化学清洗 | |
| 引用本文： | 汪涛.半导体器件生产中的化学清洗[J].清洗世界,1995(3). |
| 作者姓名： | 汪涛 |
| 作者单位： | 南京无线电元件十七厂 南京210029 |
| 摘 要： | 本文介绍了半导体器件在生产过程中的几种化学清洗方法,并指出化学清洗是去除硅片表面有害杂质的有效方法. |
| 关 键 词： | 半导体器件 有机溶剂 清洗剂 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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