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| 射频磁控溅射沉积ZrO2—8%（wt）Y2O3薄膜XPS分析 | |
| 引用本文： | 黄宁康,蒋锦江.射频磁控溅射沉积ZrO2—8%（wt）Y2O3薄膜XPS分析[J].薄膜科学与技术,1993,6(2):164-169. |
| 作者姓名： | 黄宁康 蒋锦江 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 射频 磁控溅射 ZrO2－Y2O3 XPS 薄膜 |
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