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| 氩气压强对柔性衬底ZnO∶Al薄膜性能的影响 | |
| 作者姓名： | 李姗 杨恢东 汪文明 雷飞 闵文骏 |
| 作者单位： | 1. 暨南大学信息与科学技术学院,广州,510632 2. 暨南大学信息与科学技术学院,广州510632;浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州310027 |
| 基金项目： | 广东省教育部产学研结合项目，硅材料国家重点实验室开放课题，中央高校基本科研业务费专项资金 |
| 摘 要： | 采用直流磁控溅射技术在柔性衬底聚酰亚胺(PI)上制备ZnO∶Al透明导电薄膜,研究氩气压强对样品薄膜结构、形貌和光电性能的影响,并与玻璃衬底进行了对比。结果表明:所有制备的ZAO薄膜都是六方纤锌矿结构且具有高度的c轴择优取向;氩气压强对样品薄膜的性能有较大影响,具体表现在:随着压强的增大,晶粒尺寸先增大后减小,方块电阻值先减小后增大,最小值出现在压强为12Pa,其值为12Ω/sq,600~800nm薄膜的相对透射率为94%,高于玻璃衬底的相对透射率。 |
| 关 键 词： | 氩气压强 柔性衬底 ZnO∶Al薄膜 直流磁控溅射 |
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