| 化学液相沉积法制备AlxOy薄膜 |
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| 引用本文： | 饶文雄,孙捷,宋昌烈,李成仁,李淑凤,胡礼中. 化学液相沉积法制备AlxOy薄膜[J]. 哈尔滨工业大学学报, 2003, 35(6): 668-670 |
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| 作者姓名： | 饶文雄 孙捷 宋昌烈 李成仁 李淑凤 胡礼中 |
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| 作者单位： | 大连理工大学物理系,辽宁,大连,116024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(69787001; 69889701). |
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| 摘 要： | 给出了用化学液相沉积法(CLPD)制备A1xOy／Si薄膜的方法，室温下生长2h得到A1xOy／Si薄膜，其退火温度为1000℃，退火时间2h．对薄膜的显微硬度、成分和结构进行了检测和分析．结果表明，薄膜的显微硬度在退火前为5202．0N／mm^2，退火后为14533．5N／mm^2，增加近3倍；高温退火去掉了膜内的0H^-1，同时使薄膜晶化，晶体薄膜的O／A1比例为1．3．
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| 关 键 词： | 化学液相沉积法 氧化铝薄膜 光波导放大器 生长液 硅 双水解过程 退火 显微硬度 晶化 |
| 文章编号： | 0367-6234(2003)06-0668-03 |
| 修稿时间： | 2002-07-26 |
Preparation of thin aluminum oxide films by chemical liquid phase deposition |
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| RAO Wen xiong,SUN Jie,SONG Chang lie,LI Cheng ren,LI Shu feng,HU Li zhong. Preparation of thin aluminum oxide films by chemical liquid phase deposition[J]. Journal of Harbin Institute of Technology, 2003, 35(6): 668-670 |
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| Authors: | RAO Wen xiong SUN Jie SONG Chang lie LI Cheng ren LI Shu feng HU Li zhong |
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| Keywords: | chemical liquid phase deposition alumina film erbium |
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