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| 掺碳SiO_2薄膜的室温可见光致发光研究 | |
| 作者姓名： | 王印月 薛华 郭永平 甘润今 孙燕杰 张亚菲 杨映虎 陈光华 |
| 作者单位： | 兰州大学物理系，北京机械工业学院基础部 |
| 摘 要： | 用射频共溅射技术和后退火工艺制备出了埋入ＳｉＯ２中的碳复合膜，在室温下测到了强的可见光致发光谱（峰位在２．２２ｅＶ）．研究了衬底温度、退火温度、薄膜厚度对发光谱的影响．通过喇曼散射谱、红外透射谱和Ｘ光衍射谱的测量，对复合膜的结构进行了探讨． |
| 关 键 词： | 二氧化硅 可见光致发光 掺杂 半导体纳米材料 |
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