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摘    要:一九八八年十一月下旬,机械电子工业部沈阳仪器仪表工艺研究所受部司委托,对该所研究成功的扩散硅液位传感器、薄膜InSb磁阻元件、硅杯加工工艺研究、硅荷重传感器、磁—温传感器、高稳定性霍尔元件、微型、超薄型砷化镓霍尔元件及传感器等十项科技成果,在沈阳举行技术鉴定,有关代表对各项

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