| 新型恒速变向平动双面抛光机设计 |
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| 引用本文： | 胡晓珍,陈毓,李伟.新型恒速变向平动双面抛光机设计[J].新技术新工艺,2009(5). |
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| 作者姓名： | 胡晓珍 陈毓 李伟 |
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| 作者单位： | 1. 浙江海洋学院,浙江,舟山,316000
2. 浙江工业大学,浙江,杭州,310014 |
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| 摘 要： | 常用行星式双面抛光机中工件及载体的内外缘速差会引起抛光垫变形,降低晶片平面度.本文设计了一种圆平动或摆动式新型双面抛光机,其工件平面相对于抛光盘的运动速度大小恒定,方向沿圆周轨迹的切线方向循序渐变,且能把抛光压力均匀压在载体内的工件上,该新型双面抛光机具有恒速变向抛光的优点,有较高的抛光效率和抛光精度,体积小,结构紧凑.
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| 关 键 词： | 恒速 变向 双面抛光机 |
The Design of a New Type Double-sided Polishing Machine with Constant-Velocity and Change-Direction |
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| HU Xiaozhen,CHEN Yu,LI Wei.The Design of a New Type Double-sided Polishing Machine with Constant-Velocity and Change-Direction[J].New Technology & New Process,2009(5). |
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| Authors: | HU Xiaozhen CHEN Yu LI Wei |
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