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ZnO同质p-n结的研究
引用本文:杨晓杰,许小亮,谢家纯,徐传明,徐军,刘洪图.ZnO同质p-n结的研究[J].真空科学与技术学报,2005,25(Z1):101-104.
作者姓名:杨晓杰  许小亮  谢家纯  徐传明  徐军  刘洪图
作者单位:1. 中国科技大学物理系,合肥,230026
2. 中国科技大学物理系,合肥,230026;中国科学院中国科技大学结构分析重点实验室,合肥,230026
3. 中国科技大学物理系,合肥,230026;中国科技大学精密机械与精密仪器系,合肥,230027
基金项目:中国科学院资助项目,安徽省人才基金,安徽省高新技术基金
摘    要:调节反应气体中O2的比例和RF电源的功率可以增加本征施主V0的形成焓,降低本征受主VZn和Oi的形成焓,制备出p型ZnO薄膜;采用掺杂金属Al制备出低电阻n型ZnO薄膜,在此基础上得到性能可观的ZnO同质p-n结.

关 键 词:ZnO薄膜  同质  p-n结  p型
文章编号:1672-7126(2005)增-101-04
修稿时间:2004年5月1日

Research of ZnO Homojeneous p-n Junction
Yang Xiaojie,Xu Xiaoliang,Xie Jiachun,Xu Chuanming,Xu Jun,Liu Hongtu.Research of ZnO Homojeneous p-n Junction[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2005,25(Z1):101-104.
Authors:Yang Xiaojie  Xu Xiaoliang  Xie Jiachun  Xu Chuanming  Xu Jun  Liu Hongtu
Abstract:
Keywords:
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