| 倾斜溅射制备TbFe薄膜的磁力显微镜研究 |
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| 引用本文： | 陈琨,王志红,张金平,周宇.倾斜溅射制备TbFe薄膜的磁力显微镜研究[J].功能材料,2004,35(Z1):3349-3351. |
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| 作者姓名： | 陈琨 王志红 张金平 周宇 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,微电子与固体电子学院纳米技术中心,四川,成都,610054 |
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| 基金项目： | 国家973基金资助项目 |
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| 摘 要： | 磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具广泛地应用于磁性薄膜的研究中.TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以具有较低的面内饱和场Hs,传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降低面内饱和场Hs.通过测量样品的磁滞回线可以发现,易磁化轴随着溅射角度的增加逐渐偏离样品的法线方向,而取向于平行膜面.本研究工作利用MFM研究了不同溅射角度得到的TbFe薄膜的磁畴结构.发现薄膜的磁畴结构随着溅射角度的增加逐渐由垂直畴转化为水平畴,与磁滞回线测量得到的易轴方向发生偏转的结果相吻合.
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| 关 键 词： | 磁力显微镜 TbFe薄膜 倾斜溅射 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-3349-03 |
| 修稿时间： | 2004年4月21日 |
Study on the effect of oblique sputtering on TbFe thin films by MFM |
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| CHEN Kun,WANG Zhi-hong,ZHANG Jin-ping,ZHOU Yu.Study on the effect of oblique sputtering on TbFe thin films by MFM[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):3349-3351. |
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| Authors: | CHEN Kun WANG Zhi-hong ZHANG Jin-ping ZHOU Yu |
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