| 纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层 |
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| 引用本文： | 陆静,王艳辉,臧建兵. 纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层[J]. 超硬材料工程, 2007, 19(6): 1-5 |
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| 作者姓名： | 陆静 王艳辉 臧建兵 |
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| 作者单位： | 燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室,河北,秦皇岛,066004 |
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| 摘 要： | 采用准原子层沉积（Quasi Atomic Layer Deposition-QALD）技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层。通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附，然后原位热解的分步反应实现了硅镀层对纳米金刚石的完整包覆。实验使用TEM、XRD、FTIR和TGA-DSC等分析方法研究了镀硅纳米金刚石的形貌、结构、表面吸附状态和热稳定性。结果表明，SiH4气体循环吸附-热解的QALD方法可在纳米金刚石颗粒表面形成均匀连续、厚度可控的硅镀层。热解反应温度为600℃时，硅镀层为立方相。纳米金刚石镀硅后，热稳定性显著提高，温度升高到1000℃也没有明显的氧化反应发生。
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| 关 键 词： | 纳米金刚石 硅镀层 准原子层沉积 热稳定性 |
| 文章编号： | 1673-1433(2007)06-0001-05 |
| 修稿时间： | 2007-09-15 |
Silicon quasi atomic layer deposition on nanodiamond |
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| LU Jing,WANG Yan-hui,ZANG Jian-bing. Silicon quasi atomic layer deposition on nanodiamond[J]. , 2007, 19(6): 1-5 |
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| Authors: | LU Jing WANG Yan-hui ZANG Jian-bing |
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