| 基片负偏压对PEMSIP法铁基体TiN涂层相组成的影响 |
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| 引用本文： | 王玉魁,李声,李秀兰,高路斯,韩会民.基片负偏压对PEMSIP法铁基体TiN涂层相组成的影响[J].材料科学与工程学报,1995(4). |
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| 作者姓名： | 王玉魁 李声 李秀兰 高路斯 韩会民 |
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| 作者单位： | 大连理工大学 |
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| 摘 要： | 利用等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ）技术在铁基体上沉积ＴｉＮ涂层之前，先镀一层很薄的钛中间层，继之再沉积ＴｉＮ。研究了基片负偏压对涂层相组成的影响。结果表明，随着基片负偏压增加，膜层的相分朝着富氮相及其含量增加的方向发展，变化趋势为（α－Ｔｉ＋Ｔｉ_２Ｎ＋ＴｉＮ）→（Ｔｉ_２Ｎ＋ＴｉＮ）→ＴｉＮ。在基体与中间层界面处有ＦｅＴｉ相；在中间层与后继膜的交接处，发现α＝１与Ｔｉ_２Ｎ有取向关系。
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| 关 键 词： | 等离子体增强，磁控溅射，基片负偏压，相组成，TiN |
The Influence of Substrate Negative Bias on Component Phases of Fe Base TiN Coating by Plasma Enhanced Magnetron Sputtering lon plating |
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| Wang Yukui, Li Sheng, Li Xiulan, Gao Lusi,Han Huimin.The Influence of Substrate Negative Bias on Component Phases of Fe Base TiN Coating by Plasma Enhanced Magnetron Sputtering lon plating[J].Journal of Materials Science and Engineering,1995(4). |
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| Authors: | Wang Yukui Li Sheng Li Xiulan Gao Lusi Han Huimin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Plasma enhance Magnetron sputtering Substrate negative bias Component phase TiN |
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