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离子束刻蚀HgCdTe环孔pn结Ⅰ-Ⅴ、R_D-V特性的研究(上)
引用本文:何波,徐静,马忠权,史衍丽,赵磊,李凤,孟夏杰,沈玲.离子束刻蚀HgCdTe环孔pn结Ⅰ-Ⅴ、R_D-V特性的研究(上)[J].红外,2009(1).
作者姓名:何波  徐静  马忠权  史衍丽  赵磊  李凤  孟夏杰  沈玲
作者单位:上海大学理学院物理系;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室;昆明物理研究所;
基金项目:上海市教委创新基金(No.08YZ12);;上海大学-索朗光伏材料与器件R&D联合实验室的发展基金(No.SS-E0700601)资助
摘    要:本文推导了一种可简便、准确、直观计算和分析pn结Ⅰ-Ⅴ特性的公式和方法,并应用该方法对两类典型HgCdTe环孔pn结的Ⅰ-Ⅴ、R_D-V特性进行了计算和拟合;得到了表面欧姆(反型沟道)漏电导、二极管理想因子n随电压的分布等反映二极管结特性的重要参数。计算结果表明,对于长波HgCdTe光伏器件而言,表面漏电流在整个暗电流中所占的比重相当大,表面漏电流严重地制约着器件性能。HgCdTe材料的晶体缺陷会使二极管的理想因子n增大,从而使产生-复合电流及陷阱辅助隧穿电流增加。

关 键 词:HgCdTe  环孔pn结  Ⅰ-Ⅴ特性  动态电阻  表面漏电流  
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