国际会议消息

1973年激光工学应用会议将于1973年5月30日～6月1日在美国华盛顿召开。主办单位是IEEE量子电子学会议和美国光学协会。主要内容有:激光及有关器件工学;光通信方式、装置及元件;激光测距;大气污染观测;光偏转(包括显示技术);光信息处理、记忆及检索(包括全息照像);激光精密测量(激光陀螺仪、干涉仪等);激光束的传播及传递,光调制及光检波;非线性光学装置;激光加工(切割、熔接、微调等)新装置,激光的新应用;光集成回路。