| 采用Taguchi方法优化一种带外延层的PPD工艺参数 |
| |
| 引用本文： | 徐渊,陆河辉,刘诗琪. 采用Taguchi方法优化一种带外延层的PPD工艺参数[J]. 半导体光电, 2016, 37(2): 193-196 |
| |
| 作者姓名： | 徐渊 陆河辉 刘诗琪 |
| |
| 作者单位： | 深圳大学信息工程学院,广东深圳,518000;深圳大学信息工程学院,广东深圳,518000;深圳大学信息工程学院,广东深圳,518000 |
| |
| 基金项目： | 深圳市科技计划基础研究基金项目(JCYJ20140418095735603). |
| |
| 摘 要： | 引入Taguchi方法分析并优化一种带外延层的PPD结构(EPPD),并通过SILVACO软件进行验证.实验结果显示该方法通过对EPPD像素结构工艺参数的优化,提升了该结构抑制噪声的能力和光电转换性能.
|
| 关 键 词： | Taguchi方法 外延层 PPD SILVACO |
Process Parameters Optimization of Pinned Photodiode with Epitaxial Layer Using Taguchi Method |
| |
| XU Yuan,LU Hehui,LIU Shiqi. Process Parameters Optimization of Pinned Photodiode with Epitaxial Layer Using Taguchi Method[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2016, 37(2): 193-196 |
| |
| Authors: | XU Yuan LU Hehui LIU Shiqi |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Taguchi method epitaxial layer pinned photodiode SILVACO |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
