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| 高纯钽溅射靶材制备工艺进展 | |
| 引用本文： | 郑金凤,扈百直,杨国启,罗文,郑爱国. 高纯钽溅射靶材制备工艺进展[J]. 湖南有色金属, 2016, 0(4). DOI: 10.3969/j.issn.1003-5540.2016.04.016 |
| 作者姓名： | 郑金凤 扈百直 杨国启 罗文 郑爱国 |
| 作者单位： | 国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心,宁夏石嘴山753000;宁夏东方钽业股份有限公司,宁夏石嘴山753000 |
| 摘 要： | 目前高纯钽溅射靶材的制备方法,主要为熔炼铸锭法和粉末冶金法,文章对两种方法制备钽靶材性能的特点进行了详述,同时对粉末冶金法制备高纯钽靶材的试验结果进行分析。针对目前国内外生产状况,展望了未来高纯钽溅射靶材的发展方向。 |
| 关 键 词： | 钽溅射靶材 熔炼铸锭法 粉末冶金法 制备工艺 进展 |
Fabrication Technology Progress of High Purity Tantalum Sputtering Target |
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| Keywords: | |
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