掺硅的GaAs体单晶的补偿比及载流子浓度的分布

采用红外吸收法测定熔体生长掺硅的GaAs单晶的补偿比。实验结果表明:当2×10~172×10~18/厘米~3,θ分别随n的减少或增加而增加。 从施主、受主浓度的分布是同步的,以及沿锭长分布符合定向凝固的杂质分凝规律,提出与杂质硅有关的Si_(As)和Si_(Ga)·V_(Ga)为主要补偿受主,并讨论了Si的掺杂行为。 垂直于晶体生长方向的试样的n,N_D和N_A的分布特征,表明N_A似乎是影响均匀性的主要缺陷。根据实验结果,简要地讨论改进均匀性和减小补偿比的一些措施。