无籽晶布里奇曼生长的CdTe熔体过热和过冷的相关性 |
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作者姓名: | 张学功 |
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摘 要: | 最近,利用低温梯度分布(<10K/cm)进行半导体化合物的晶体生长受到重视。在无籽晶生长时发现在尖端区严重过冷。这种过冷效应取决于熔态的过热程度。对约大于10K的过热熔体,过冷度的同步增加反映出熔化CdTe缔合结构的减少。若所用的过热大于9~10K,结晶时可产生一个大的延伸多晶区。在最初凝固的多晶区后面有一单晶段,或只有一两个晶界的区域。用低过热度(<9~10K)时,经常可见到初始单晶生长区。但是在生长程序的较后阶段会产生较大数目的晶界。
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关 键 词: | 半导体化合物,布里奇曼法,碲化镉,测量法 |
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