| 工件台转速对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响 |
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| 引用本文： | 周晖,温庆平,郑军,桑瑞鹏,万志华. 工件台转速对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响[J]. 润滑与密封, 2008, 33(4): 1-3 |
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| 作者姓名： | 周晖 温庆平 郑军 桑瑞鹏 万志华 |
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| 作者单位： | 兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室,甘肃兰州,730000 |
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| 摘 要： | 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了工件台转速对薄膜的结构和性能的影响.利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能.结果表明:提高工件台转速改善了掺杂金属Ti在薄膜中的分布均匀性,起到了细化晶粒尺寸,使薄膜组织结构致密性加强的效果.工件台转速变化不影响薄膜成分,薄膜的晶相从明显的(002)基面优势取向向准晶态转变;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随工件台转速的提高而增大;薄膜在真空环境中的减摩作用与工件台转速无关,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随工件台转速提高而延长.
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| 关 键 词： | 非平衡磁控溅射 MoS2-Ti复合薄膜 工件台转速 结构和性能 |
| 文章编号： | 0254-0150(2008)4-001-3 |
| 修稿时间： | 2007-08-15 |
The Influence of Substrate Table Rotation Rate on Structure and Performance of Unbalanced Magnetron Sputtering MoS2-Ti Coating |
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| Zhou Hui,Wen Qingping,Zheng Jun,Sang Ruipeng,Wan Zhihua. The Influence of Substrate Table Rotation Rate on Structure and Performance of Unbalanced Magnetron Sputtering MoS2-Ti Coating[J]. Lubrication Engineering, 2008, 33(4): 1-3 |
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| Authors: | Zhou Hui Wen Qingping Zheng Jun Sang Ruipeng Wan Zhihua |
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