| 离子束辅助沉积铪膜抑制栅电子发射性能研究 |
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| 引用本文： | 蒋军,江炳尧,郑志宏,任琮欣,冯涛,王曦,柳襄怀,邹世昌. 离子束辅助沉积铪膜抑制栅电子发射性能研究[J]. 功能材料, 2005, 36(11): 1673-1675 |
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| 作者姓名： | 蒋军 江炳尧 郑志宏 任琮欣 冯涛 王曦 柳襄怀 邹世昌 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,半导体功能薄膜工程技术研究中心,上海,200050 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划（973计划）资助项目（G2000067207-2） |
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| 摘 要： | 利用离子束辅助沉积（IBAD）方法在Mo栅极表面沉积铪膜，采用模拟二极管方法测量和比较阴极活性物质Ba、BaO蒸发在镀铪和纯钼栅极表面的电子发射性能。实验结果表明，镀铪栅极抑制电子发射性能较好，并初步探讨了离子束辅助沉积铪膜抑制栅电子发射的机理。
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| 关 键 词： | 抑制电子发射 铪 离子束辅助沉积 钼栅极 |
| 文章编号： | 1001-9731(2005)11-1673-03 |
| 收稿时间： | 2005-03-22 |
| 修稿时间： | 2005-08-03 |
Electron emission suppression characteristic of molybdenum grid coated with Hf by ion beam assisted deposition |
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| JIANG Jun,JIANG Bing-yao,ZHENG Zhi-hong,REN Cong-xin,FENG Tao,WANG Xi,LIU Xiang-huai,ZOU Shi-chang. Electron emission suppression characteristic of molybdenum grid coated with Hf by ion beam assisted deposition[J]. Journal of Functional Materials, 2005, 36(11): 1673-1675 |
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| Authors: | JIANG Jun JIANG Bing-yao ZHENG Zhi-hong REN Cong-xin FENG Tao WANG Xi LIU Xiang-huai ZOU Shi-chang |
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| Affiliation: | The Research Center of Semiconductor Functional Film Engineering Technology, Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China |
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| Abstract: | Hf was deposited onto molybdenum-grids by ion beam assisted deposition(IBAD) method.Electron emission characteristics from molybdenum-grids coated with and without Hf contaminated by active electron-emission substance of the cathode were measured using the analogous diode method.The results show that electron emission from the grids coated with Hf film is less than that without Hf film,and the mechanism for suppression of electron emission of the grid with Hf film was discussed. |
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| Keywords: | anti-emission hafnium ion beam assisted deposition molybdenum grid |
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