|
|||||
|
|
| 槽液中过量氯离子的处理 | |
| 引用本文： | 申顺保.槽液中过量氯离子的处理[J].电镀与环保,1990,10(5):40-41. |
| 作者姓名： | 申顺保 |
| 作者单位： | 国营长海机器厂 |
| 摘 要： | 引言酸性光亮镀铜工艺,都将Cl~-作为电解液的一个重要成份列入规范,并要求严格控制在20-80mg/L之间。其含量过低或过高都将严重影响镀层的质量和光亮度。根据国内外资料报道,Cl~-含量<5mg/L时,整平性、光亮度都很差,镀层粗糙有针孔,对光亮剂的添加很敏感,易产生条纹和烧焦,当Cl~-含量>100mg/L时,光亮度、整平性明显下降。低电流密度区发暗不亮,甚至产生疏松镀层,同一挂具上零件亮度不均匀,调整光亮剂效果不明显。这些现象的出现,主要是生成了CuCl沉淀,当电镀时该沉淀物分布在阴极周围,甚至吸附在零件上,使Cu~(2+)的还原受到不同程度 |
| 关 键 词： | 电镀 镀铜工艺 氯离子 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |