| 紫外正性光致抗蚀剂的研究进展及应用现状 |
| |
| 引用本文： | 宛盼盼,佘万能,沈革新,屈秀宁,吕仁亮.紫外正性光致抗蚀剂的研究进展及应用现状[J].化工新型材料,2007,35(5):1-4. |
| |
| 作者姓名： | 宛盼盼 佘万能 沈革新 屈秀宁 吕仁亮 |
| |
| 作者单位： | 湖北省化学研究院,武汉,430074;湖北省化学研究院,武汉,430074;湖北省化学研究院,武汉,430074;湖北省化学研究院,武汉,430074;湖北省化学研究院,武汉,430074 |
| |
| 摘 要： | 酚醛树脂-重氮萘醌型正性光致抗蚀剂主要适用于436nm(G线)～365nm(I线)的紫外曝光区域,是目前电子和PS版工业中使用最多的正性抗蚀材料.本文介绍了近年来该类抗蚀剂的国内外进展情况,并对其各个组分进行了归纳综述.
|
| 关 键 词： | 光致抗蚀剂 重氮萘醌 酚醛树脂 |
| 修稿时间： | 2006年12月12 |
Research progress and application status of UV positive photoresist |
| |
| Wan Panpan,She Wanneng,Shen Gexin,Qu Xiuning,Lv Renliang.Research progress and application status of UV positive photoresist[J].New Chemical Materials,2007,35(5):1-4. |
| |
| Authors: | Wan Panpan She Wanneng Shen Gexin Qu Xiuning Lv Renliang |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | photoresist diazo-naphthoquinone novolac |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
