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全方位离子注入与沉积TiN薄膜的纳米压痕和纳米划擦行为
引用本文:刘洪喜,蒋业华,汤宝寅. 全方位离子注入与沉积TiN薄膜的纳米压痕和纳米划擦行为[J]. 真空科学与技术学报, 2010, 30(5). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.05.19
作者姓名:刘洪喜  蒋业华  汤宝寅
作者单位:1. 昆明理工大学材料科学与工程学院,昆明,650093
2. 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨,150001
基金项目:国家自然科学基金,云南省自然科学基金,昆明理工大学分析测试基金 
摘    要:用等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID)复合改性技术在AISI52100轴承钢基体表面合成了高硬耐磨的TiN薄膜。膜层的相组成及其表面形貌分别用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)表征。合成薄膜前后试样的力学性能经纳米压痕和划痕实验评价。XRD结果表明,膜层中主要存在TiN相,择优取向(200),同时含有少量TiO2和钛氮氧的化合物。AFM形貌显示出试样表面TiN呈定向排列,膜层均匀完整,结构致密。纳米压痕测试结果表明,膜层具有较高的纳米硬度和弹性模量,最大值分别达到22.5和330 GPa,较基体分别增长104.5%和50%。根据纳米划痕形貌和划痕深度随划痕位置的变化关系分析出,薄膜在纳米划擦过程中先后经历了弹性变形,弹塑性变形,加载开裂或卸载剥落三个阶段。划擦剥落抗力达到80mN,表明TiN薄膜具有很好的弹性恢复能力和较强的疲劳剥落抗力。

关 键 词:等离子体浸没离子注入与沉积  纳米压痕  纳米划擦行为  TiN薄膜  轴承钢

Nanoindentation and Scratch Behavior of TiN Films Fabricated by Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition
Liu Hongxi,Jiang Yehua,Tang Baoyin. Nanoindentation and Scratch Behavior of TiN Films Fabricated by Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2010, 30(5). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.05.19
Authors:Liu Hongxi  Jiang Yehua  Tang Baoyin
Abstract:
Keywords:
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