| 氧化钇掺杂铁薄膜的制备及热稳定行为 |
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| 引用本文： | 李正操,余晓毅,苗伟,马天,张政军.氧化钇掺杂铁薄膜的制备及热稳定行为[J].深圳大学学报(理工版),2010,27(3). |
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| 作者姓名： | 李正操 余晓毅 苗伟 马天 张政军 |
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| 作者单位： | 清华大学材料科学与工程系,新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，国家重点基础研究发展计划资助项目 |
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| 摘 要： | 为研究氧化钇掺杂强化在薄膜中的应用,通过双靶磁控共溅射方法,制备了氧化钇弥散铁薄膜,利用X射线衍射仪、X射线荧光光谱仪、扫描电子显微镜和纳米压痕仪表征其结构、成分、形貌和纳米硬度.采用真空封管退火技术对薄膜进行热退火处理.实验结果表明,成功制备的铁基薄膜钇、氧元素弥散程度较好,在500℃真空退火处理后,铁薄膜的纳米硬度显著提高;随着氧化钇掺杂量的增多,纳米硬度增长率提高.该真空热处理方法为改善氧化物弥散强化合金的力学性能提供了借鉴.
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| 关 键 词： | 纳米材料 弥散强化薄膜 铁薄膜 氧化钇 真空退火 纳米硬度 |
The preparation and behavior in annealing of the yttria dispersed Ferrum films |
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| LI Zheng-cao,YU Xiao-yi,MIAO Wei,MA Tian,ZHANG Zheng-jun.The preparation and behavior in annealing of the yttria dispersed Ferrum films[J].Journal of Shenzhen University(Science &engineering),2010,27(3). |
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| Authors: | LI Zheng-cao YU Xiao-yi MIAO Wei MA Tian ZHANG Zheng-jun |
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