| 电子-离子双束纳米工作站 |
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| 引用本文： | 马向国,顾文琪,韩立. 电子-离子双束纳米工作站[J]. 光电工程, 2004, 31(Z1): 70-72 |
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| 作者姓名： | 马向国 顾文琪 韩立 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院电工研究所,北京,100080;中国科学院研究生院,北京,100039
2. 中国科学院电工研究所,北京,100080 |
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| 摘 要： | 现代微电子工业迅猛发展,对电子设备的精度和功能也提出了新的要求。电子-离子双束纳米工作站是扫描电子束和聚焦离子束技术的独特融合,突破了只能对表层成像和分析的局限,它可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以切割、研磨样品材料和沉积特定的材料,用它可以获得以前无法得到的样品信息。该工作站为研究人员和制造人员提供了一种对多种样品在纳米尺度进行修改、制作和分析的有效工具。
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| 关 键 词： | 扫描电子束 聚焦离子束 微电子技术 |
| 文章编号： | 1003-501X(2004)Sup-0070-03 |
| 收稿时间： | 2004-07-16 |
| 修稿时间： | 2004-07-16 |
Electron and ion dual beam nanometer working station |
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| MA Xiang-guo,GU Wen-qi,HAN Li. Electron and ion dual beam nanometer working station[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(Z1): 70-72 |
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| Authors: | MA Xiang-guo GU Wen-qi HAN Li |
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| Affiliation: | MA Xiang-guo1,GU Wen-qi1,HAN Li1 2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Scanning electron beam Focused ion beam Microelectronic techniques |
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