| 真空退火对氧化钒薄膜的相成分和电学性能的影响 |
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| 引用本文： | 王银玲,李美成,彭化,赵连城. 真空退火对氧化钒薄膜的相成分和电学性能的影响[J]. 红外与激光工程, 2007, 36(Z1) |
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| 作者姓名： | 王银玲 李美成 彭化 赵连城 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 利用真空退火工艺处理p-Si(100)衬底上磁控溅射制备的氧化钒多晶薄膜.利用X射线衍射(XRD)分析、原子力显微镜(AFM)以及四探针测试方法,研究了退火时间对薄膜的相成分和电学性能的影响,并观察分析了氧化钒薄膜的表面形貌.研究结果表明,随着退火时间的变化,薄膜的相成分不断发生变化,钒氧比例不断升高,可以得到多种氧化钒的相.适当的真空退火处理可以改善薄膜的表面质量,并且能有效地降低氧化钒薄膜的室温电阻率达两个数量级.
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| 关 键 词： | 氧化钒 真空退火 相成分 电学性能 |
Effects of vacuum annealing on the phase composition and electrical property of vanadium oxide thin films |
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| WANG Yin-ling,LI Mei-cheng,PENG Hua,ZHAO Lian-cheng. Effects of vacuum annealing on the phase composition and electrical property of vanadium oxide thin films[J]. Infrared and Laser Engineering, 2007, 36(Z1) |
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| Authors: | WANG Yin-ling LI Mei-cheng PENG Hua ZHAO Lian-cheng |
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